400-650-9228
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同步輻射吸收譜測試
介紹同步輻射吸收譜，也稱X射線吸收精細(xì)結(jié)構(gòu)(X-ray absorption fine structure，XAFS)，一般用于反應(yīng)樣品中單個元素的價態(tài)情況、單個原子的配位環(huán)境、單個吸收原子的電子結(jié)構(gòu)(軌道躍遷、雜化)，是一種微觀的、結(jié)
粉末XRD
測試項目：a. 常規(guī)廣角: 5--90°，小角：0.5--10°;b. 常規(guī)測試速率：10°/min、5°/min、2°/min;小角測試速率：1°/min, 0.5°/min;更多測試要求請咨詢客戶經(jīng)理;樣品要求：1. 樣品狀態(tài)：可為粉末
單晶XRD
測試項目：a. 靶材：鉬靶，銅靶，旋轉(zhuǎn)靶;b. 測試溫度：室溫和低溫;更多測試要求請咨詢客戶經(jīng)理。樣品要求：1. 晶體質(zhì)量好，可測無機(jī)晶體，有機(jī)晶體以及MOF。2. 有機(jī)和MOF類單晶，在送樣時，應(yīng)放在母液中，一起寄出。3. 若要解析結(jié)構(gòu)，
紫外光電子能譜UPS
測試項目：UPS可以測試樣品功函數(shù)和價帶位置;更多測試要求請咨詢客戶經(jīng)理。樣品要求：1.樣品狀態(tài)：薄膜，樣品平面尺寸一般要求5*5mm，最大不超過8*8mm，可以為正方形或者長方形，厚度最好不要超過1mm，樣品要求具有一定導(dǎo)電性。2.粉體樣
掠入射XRD（GIXRD）
介紹掠入射X射線衍射(GIXRD)是一種讓X射線略過樣品表面的技術(shù)，能夠通過調(diào)節(jié)入射角度從而改變探測深度，對表面的靈感度可高達(dá)致幾nm，這種技術(shù)能夠更真實全面地表征出薄膜(特別是共輒聚合物薄膜)的微結(jié)構(gòu)。優(yōu)勢1.測試光是平行光，相對于常規(guī)的
X射線光電子能譜（XPS）
介紹X射線光電子能譜(XPS)是分析物質(zhì)表面化學(xué)性質(zhì)的一項技術(shù)，也作為電子材料與元器件顯微分析中的一種先進(jìn)分析技術(shù)，可測量材料中元素組成、經(jīng)驗公式、元素化學(xué)態(tài)和電子態(tài)，常常和俄歇電子能譜(AES)配合使用。由于他可以比俄歇電子能譜技術(shù)更準(zhǔn)確
X射線熒光光譜儀（XRF）
測試項目：可測元素范圍：11Na-92U樣品要求：1. 樣品狀態(tài)：可為粉末、塊狀、薄膜樣品。2. 粉末樣品：粉末樣品需要至少1 g ，最好3 g以上，樣品在測試之前盡量干燥，200目以下;含碳元素含量超過10%的樣品，請先將樣品燒成灰，
紫外光電子能譜（UPS）
一、分析方法開發(fā)分析方法的開發(fā)主要包括色譜柱的選擇、流動相的選擇、檢測波長的選擇和梯度的優(yōu)化幾個方面。1、色譜柱的選擇1.1普通的C18或相應(yīng)的C8色譜柱，如Waters的Symmetry C18或C8，YMC的Pack Pro C18或C
中國第三方檢測與認(rèn)證服務(wù)開拓者和領(lǐng)先者
一鍵下單 流程透明